Фотошаблоны базовых и эмиттерных областей

Фотошаблоны являются основным инструментом для получения рисунка в слое ФР на подложке. Фотошаблон - это плоскопараллельная пластина из прозрачного материала, на которой имеется рисунок, состоящий из непрозрачных для света определенной длины волны участков, образующих топологию одного из слоев структуры прибора, многократно повторенного в пределах рабочего поля подложки. Топология структуры - рисунок (чертеж), включающий в себя размеры элементов структуры, их форму, положение и принятые допуски. Для изготовления ИМС необходим комплект ФШ в соответствии с количеством формируемых технологических слоев.

Чертеж фотошаблонов базовых и эмиттерных областей предсталены в Приложении 1 и в Приложении 2.

Заключение

В ходе курсового проекта была разобрана топология интегральной микросхемы, найдена эквивалентная электрическая схема логического элемента И-НЕ, по топологической схеме ТС-14 (Рис.1.3).

В ходе работы был произведен расчет профиля концентрации легирующей примеси в базовой и эмиттерной области структуры микросхемы, составлен технологический маршрут схемы по заданной технологии, так же рассчитана погрешность диффузионных элементов. Изготовлены чертежи фотошаблонов эмиттерных и базовых областей, представленных в приложении 1 и 2.

Список использованных источников

1. Данинилина Т.И., Смирнова К.И., Илюшин В.А., Величко А.А. – Процессы микро – и нанотехнологии. – Томск: ТУСУР, 2005. – 315 с.

2. Матсен Э.А., Крыжановский А.В. – Справочное пособие по конструированию микросхем. –Минск .: «Высшая школа», 1982. – 224 с.

3. Коледов Л.А. – Технология и конструкции микросхем, микропроцессоров и микросборок: Учебник для вузов.— М.: Радио и связь, 1989.— 400 с.

4. Данилина Т.И. – Технология тонкопленочных микросхем. – Томск: ТУСУР, 2007. – 151 с.

5. Парфенов О.Д. – Технология микросхем. – М.: Высшая школа, 1977. – 256с.