Археология об основании Рима: Новые раскопки проясняют и такой острый дискуссионный вопрос, как дата самого возникновения Рима...
Эмиссия газов от очистных сооружений канализации: В последние годы внимание мирового сообщества сосредоточено на экологических проблемах...
Топ:
Комплексной системы оценки состояния охраны труда на производственном объекте (КСОТ-П): Цели и задачи Комплексной системы оценки состояния охраны труда и определению факторов рисков по охране труда...
Проблема типологии научных революций: Глобальные научные революции и типы научной рациональности...
Марксистская теория происхождения государства: По мнению Маркса и Энгельса, в основе развития общества, происходящих в нем изменений лежит...
Интересное:
Влияние предпринимательской среды на эффективное функционирование предприятия: Предпринимательская среда – это совокупность внешних и внутренних факторов, оказывающих влияние на функционирование фирмы...
Берегоукрепление оползневых склонов: На прибрежных склонах основной причиной развития оползневых процессов является подмыв водами рек естественных склонов...
Подходы к решению темы фильма: Существует три основных типа исторического фильма, имеющих между собой много общего...
Дисциплины:
|
из
5.00
|
Заказать работу |
Содержание книги
Поиск на нашем сайте
|
|
|
|
Процесс плазменного напыления применяется для нанесения на поверхность деталей специальных покрытий, обеспечивающих в процессе эксплуатации защиту металла и повышение таких характеристик, как теплостойкость, износостойкость, коррозионная стойкость и др.
Плазменное напыление имеет ряд преимуществ перед другими методами напыления (газопламенным, электродуговым).
Высокая температура плазмы и нейтральная среда позволяют получить покрытия более однородными, с меньшей окисляемостью и большей износостойкостью. Кроме того, создается возможность напыления тугоплавких материалов (вольфрам, молибден, твердые сплавы, окислы алюминия, хрома, керамические материалы и др.).
При плазменном напылении в качестве источника тепла используется энергия плазменной струи. Плазменная струя или плазма представляет собой направленный поток ионизированных частиц газа, имеющего температуру 10000… 20000 ° К.
Плазму получают, пропуская поток газа через столб электрической дуги. Степень ионизации значительно повышается при использовании так называемой сжатой дуги. При этом часть столба дуги помещают в узкий канал с охлаждающими стенками, а в полость канала подают струю газа. В узком канале столб дуги сжимается, что приводит к повышению в нем плотности энергии.
Повышение концентрации энергии ведет к резкому росту температуры газа и степени его ионизации. Это обеспечивает получение плазменной струи с еще более высокой температурой.
Применение дуговой плазмы для напыления обуславливает возможность регулирования степени нагрева основного и напыляемого материала, обеспечивает стабильность протекания процесса напыления.
В качестве плазмообразующего газа могут использоваться аргон, смесь аргона с азотом (25%), воздух.
В качестве присадочного материала при плазменном напылении может использоваться металлическая проволока или порошок.
Напыление проволокой осуществляется двумя способами: нейтральной проволокой и проволокой, включенной в электрическую цепь к аноду источника питания.
Pacмотрим указанные способы плазменного напыления присадочной проволокой.
Напыление по схеме «нейтральная проволока»
Дуга косвенного действия горит (рис. 10) между вольфрамовым электродом 1 и медным водоохлаждающим соплом 2, к которому подключен положительный полюс источника тока 5.
|
|
Рис. 10. Схема напыления «нейтральная проволока»
Отрицательный полюс источника тока подключен к вольфрамовому электроду. Столб дуги располагается в узком канале, по которому через столб дуги пропускается плазмообразующий газ 6.
Плазменная струя 10, выходя из сопла 2 расплавляет проволоку 7, которая является нейтральной, т. е. не включенной в электрическую цепь.
Под действием тепла плазменной струи проволока расплавляется, и ее расплавленные частицы 9 потоком плазмы наносятся на поверхность напыляемой детали 8.
Устройство, в котором происходит образование плазменной струи, называется плазменной горелкой или плазмотроном.
Напыление по схеме «проволока - анод»
|
Рис.11. Напыление по схеме «проволока-анод»
|
Устройство плазмотрона, применяемого в данном способе напыления, принципиально не отличается от вышеописанного.
В данном способе напыляемая проволока включается в общую электрическую цепь установки и является анодом (рис. 11).
В этом случае одна дуга горит между вольфрамовым электродом 1 и соплом-каналом 2, вторая - между вольфрамовым электродом и токоведущей проволокой 7. Питание обеих дуг осуществляется от одного источника 5.
Этот способ обеспечивает регулирование количества теплa, вводимого в основной металл, путем изменения тока в проволоке (регулированием сопротивления).
Процессы напыления по приведенным схемам отличаются производительностью, величиной распыляемых частиц и интенсивностью нагрева напыляемых деталей.
По первой схеме производят напыление малогабаритных деталей проволокой диаметром 0.5… 1.0 мм. Кроме этого, она находит применение в тех случаях, когда отсутствует возможность охлаждения изделия в процессе напыления.
По второй схеме наплавляют проволокой диаметром 0.8… 2.0 мм крупногабаритные детали при наличии принудительного охлаждения их.
Широкое применение находит плазменное напыление порошковыми материалами.
|
Рис.12. Схема напыления с вдуванием порошка |
Существуют различные технологические варианты плазменного напыления материалами. Одним из наиболее совершенных является способ плазменного напыления с вдуванием порошка в дугу (рис. 12).
Порошок 15 находится в порошковом питателе 14. Посредством транспортирующего газа из баллона 12, по шлангам 11 порошок вдувается в плазменную струю 10, где он нагревается и переносится на подогретую плазмой прямого действия поверхность напыляемой детали 8.
В данном случае транспортирующий газ является одновременно и плазмообразующим.
Газ из баллона поступает через редуктор 13.
Для обеспечения равномерности подачи порошка на питателе предусмотрен вибратор 16.
Разновидностью данного способа напыления является способ с применением двух газов: транспортирующего и плазмообразующего.
Основными параметрами процесса плазменного напыления являются:
· тип плазмообразующего газа;
· расход газа;
· сила тока;
· скорость перемещения плазмотрона;
· расстояние от сопла до напыляемой поверхности (дистанция напыления);
· скорость подачи присадочной проволоки.
Вид и расход плазмообразующего газа влияет на температуру плазменной струи.
Для плазменной дуги, горящей в аргоне или гелии
Т пл = (1.5… 2.5) 104 ° K. (12)
Для плазменной дуги, горящей в смеси с азотом
Т пл = (0.5… 0.7) 104° K. (13)
Сила тока также повышает температуру струи. Увеличение силы тока от 50 до 350 А повышает среднюю температуру струи примерно oт 1.104 до 1.5.104 ° K.
Скорость перемещения плазмотрона значительно влияет на толщину напыленного слоя.
С увеличением скорости перемещения плазмотрона толщина напыленного слоя уменьшается.
Дистанция напыления (h) обуславливает, с одной стороны, величину тепловложения в поверхностный слой детали, с другой - определяет равномерность распределения покрытия по поверхности.
При значительном уменьшении h происходит перегрев основного металла и возрастает неравномерность распределения покрытия по поверхности детали.
|
|
|
Историки об Елизавете Петровне: Елизавета попала между двумя встречными культурными течениями, воспитывалась среди новых европейских веяний и преданий...
Механическое удерживание земляных масс: Механическое удерживание земляных масс на склоне обеспечивают контрфорсными сооружениями различных конструкций...
Индивидуальные и групповые автопоилки: для животных. Схемы и конструкции...
Двойное оплодотворение у цветковых растений: Оплодотворение - это процесс слияния мужской и женской половых клеток с образованием зиготы...
© cyberpediasu.com 2017-2026 - Не является автором материалов. Исключительное право сохранено за автором текста.
Если вы не хотите, чтобы данный материал был у нас на сайте, перейдите по ссылке: Нарушение авторских прав. Мы поможем в написании вашей работы!